本書の特長

半導体製造プロセスでは、ウォータマークのないウエハ乾燥技術が必須です。 特許情報には次世代技術に挑む各社の取り組みが反映されます。

本書では、ウォータマークの原因と言われるスプラッシュやマランゴニ対流をIPAや表面張力で抑える既存技術の改良だけでなく、省エネなインライン乾燥システムやフットプリントの少ない縦型乾燥装置など、最近の乾燥技術を、スピン乾燥装置、スピン以外のインラインなどの乾燥装置、乾燥プロセス、次世代半導体への展開などの技術観点に分け、具体例を取り上げます。

特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます

技術テーマを絞り、直近2〜3年間の特許情報に基づいて、技術開発最前線がどうなっているか、大切な技術成果を知財にどう反映させているか、「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして典型例約100件を集めたガイドブックです。

自己の課題の相対的位置を知りこれからの方向を考える資料として、また簡易な特許調査としてご活用ください。

●技術分類

※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

• スピン方式乾燥装置
• スピン以外の乾燥装置
• 乾燥プロセス
• 乾燥用部材
• 乾燥技術の利用
• 次世代半導体への展開

●掲載企業(順不同)

大日本スクリーン製造
東京エレクトロン
東京精密
セメス
富士通
松下電器産業
日立ハイテクノロジーズ
カイジョー
凸版印刷
東邦化成
東芝
エスイーゼツト・アクチエンゲゼルシヤフト
セイコーエプソン ほか

技術的着眼点を俯瞰できるガイドマップ

ガイドマップは、アングル（技術的着眼点）ごとに図面と企業を選び放射状に配置した、ネオテクノロジー独自の俯瞰マップです。直近数年の出願にあらわれる技術と企業を見渡すことができます。

深堀調査に役立つIPC／FIガイド

深掘調査を行う際には国際特許分類（IPC）や日本特許庁独自のファイルインデックス（FI）を利用すると便利です。IPC／FIガイドではアングル（技術分類）ごとの特許情報に実際に付与されている特許分類を抽出し掲載しています。

見やすい誌面

本書で取り上げた特許情報をアングル（技術分類）ごとに分けて抄録を掲載することにより、技術の特徴がより把握しやすい誌面構成となっています。また、巻末には特許情報の一覧表も掲載しています。