本書の特長

半導体製造プロセスでは、パーティクルや金属、有機物汚染などに洗浄技術が必須です。 特許情報には次世代洗浄技術への各社の取り組みが反映されます。

本書では、超音波やスプレー、ブラシの既存技術の改良のほか、液浸露光洗浄や微細パターンの倒壊防止、Low K材やSiC新素材への対応、安全と環境を重視した薬液回収システムなど、最近の具体例を、洗浄装置・部材、洗浄プロセス、洗浄液など、技術的観点に分けて取り上げます。

特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます

技術テーマを絞り、直近2〜3年間の特許情報に基づいて、技術開発最前線がどうなっているか、大切な技術成果を知財にどう反映させているか、「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして典型例約100件を集めたガイドブックです。

自己の課題の相対的位置を知りこれからの方向を考える資料として、また簡易な特許調査としてご活用ください。

●技術分類

※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

• 洗浄装置、部材
• 洗浄プロセス
• 洗浄液、液供給装置
• リソグラフィー関係の洗浄技術
• その他

●掲載企業(順不同)

大日本スクリーン製造
東京エレクトロン
栗田工業
東芝
プレテック
SOKUDO
ラム リサーチ コーポレーション
出願人
芝浦メカトロニクス
ルネサステクノロジ
セメス
ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
富士通マイクロエレクトロニクス
東京応化工業
三菱瓦斯化学
三菱化学
日立プラントテクノロジー
荏原製作所 ほか

技術的着眼点を俯瞰できるガイドマップ

ガイドマップは、アングル（技術的着眼点）ごとに図面と企業を選び放射状に配置した、ネオテクノロジー独自の俯瞰マップです。直近数年の出願にあらわれる技術と企業を見渡すことができます。

深堀調査に役立つIPC／FIガイド

深掘調査を行う際には国際特許分類（IPC）や日本特許庁独自のファイルインデックス（FI）を利用すると便利です。IPC／FIガイドではアングル（技術分類）ごとの特許情報に実際に付与されている特許分類を抽出し掲載しています。

見やすい誌面

本書で取り上げた特許情報をアングル（技術分類）ごとに分けて抄録を掲載することにより、技術の特徴がより把握しやすい誌面構成となっています。また、巻末には特許情報の一覧表も掲載しています。