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研究開発アーリーステージの開発テーマ探索 ─ パテントガイドブックナノインプリントのパターン形成 Part2

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2010年7月発刊
ネオテクノロジー監修
本文PDF(A4判 136ページ)
定価:50,000円+税(送料別)
オプション:掲載特許一覧表(EXCEL版、全文明細書PDFリンク付)
定価:10,000円+税(送料別)

本書の特長

ナノインプリントは光学フィルムや有機EL、太陽電池などにも適した大面積微細パターンの連続生産プロセスです。 特許調査の難しい分野だけに、国際特許分類IPCやキーワードの逆探知、自社出願やアイデア創出強化のガイドとして、お役立てください。

本シリーズ「パテントガイドブック」のねらい

技術テーマのプランニングや技術開発において、技術者自身が最新の特許情報を的確に把握することが求められています。しかし、膨大な特許情報の中から必要な情報を抽出するには困難が伴います。そこで、特定の技術テーマにフォーカスし、俯瞰しやすいレベルにまとめたのが本シリーズ「パテントガイドブック」です。
技術者の視点で直近の特許情報から最低限必要な約100件の情報を厳選した本シリーズは、技術者が進むべき将来の方向を探る道しるべとして最適なガイドです。

 

 

アングル(技術分類)

※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

  • 目的パターンへの対応
  • モールドの改善
  • モールドの革新
  • プロセスの改善
  • プロセスの複合化
  • 新素材の探求

掲載企業(順不同)

リコー
ソニー
東レ
東芝機械
昭和電工
新日本石油
凸版印刷
ブリヂストン
東芝
旭化成
ダイキン工業
日立製作所
神奈川科学技術アカデミー
エルピーダメモリ
キヤノン
三星電子
富士フイルム
大日本印刷
富士電機デバイステクノロジー
三菱レイヨン
協和発酵ケミカル ほか

技術的着眼点を俯瞰できるガイドマップ

ガイドマップは、アングル(技術的着眼点)ごとに図面と企業を選び放射状に配置した、ネオテクノロジー独自の俯瞰マップです。直近数年の出願にあらわれる技術と企業を見渡すことができます。

深堀調査に役立つIPC/FIガイド

深掘調査を行う際には国際特許分類(IPC)や日本特許庁独自のファイルインデックス(FI)を利用すると便利です。IPC/FIガイドではアングル(技術分類)ごとの特許情報に実際に付与されている特許分類を抽出し掲載しています。

見やすい誌面

本書で取り上げた特許情報をアングル(技術分類)ごとに分けて抄録を掲載することにより、技術の特徴がより把握しやすい誌面構成となっています。また、巻末には特許情報の一覧表も掲載しています。



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