本書の特長

1983年1 月1 日以後、2013 年8月31日までに発行され、出願審査中もしくは権利継続中の国内の公開特許・（再）公表特許・登録特許から、半導体製造プロセスの中で自己組織化技術を用いたことを特徴にする特許情報を特許分類（IPC／FI）を基軸としてキーワードで絞り込んだ主検索式を主軸にキーワードで絞り込んで抽出し（1,986件）、専門技術スタッフが全件マニュアル査読にて抽出した公開特許情報1,261件（内、登録となった特許情報625件）を収録しました。

企業別・技術別に分析。ビジュアルに全貌を把握できます。全体像の俯瞰と、詳細情報のクローズアップ。ダイナミックに視点を切替えて特許情報から業界の動きや技術の変化を調べることができます。

調査対象技術

半導体製造プロセスの中で自己組織化技術を用いたこと特徴とした特許情報を対象とし、特に半導体分野での用途を狙っている特許情報を取り上げました。

本シリーズ「ダイナミックマップ」のねらい

技術テーマの全体俯瞰をしながら技術と企業の詳細をクローズアップできる電⼦版の特許資料です。プレゼンテーションや社内ミーティングに活⽤しやすい豊富な特許マップを掲載しています。最新特許情報へのアップデートサービスもあります。

●技術から見る

• 技術シェア
• 出願件数推移
• 企業シェア
• 企業ランキング
• 公開特許一覧表 → 公報全文pdf

・材料観点に特徴：導電性コポリマー、半導体コポリマー、強誘電性コポリマー、圧電性コポリマー、アイオノマーコポリマー、感光性コポリマー、DNA利用自己組織化材料などを取り上げました。

・製法プロセス観点に特徴：乾式熱転写プロセス、直接接触印刷プロセス、堆積阻害材料のパターン化、貫通ビア電極形成方法、low-k配線プロセス、DNA利用ナノデバイスプロセス、多孔性誘電体層形成プロセス、プロセス残渣洗浄方法などを取り上げました。

・設備装置関連に特徴：コポリマーを含む多層積層フィルムの連続形成装置、SAM処理された基板のパターニング装置、化学機械的研磨装置などを取り上げました。

・用途関連に特徴：有機発光ダイオード、正孔輸送層、太陽電池バックシート、ガス放出の少ないフォトレジスト、熱冷却兼絶縁用接着剤、インターポーザーフィルム、アクチュエータ、ガスバリアフィルム、化学機械研磨液分散剤、カプセル化デバイスシーリング剤などを取り上げました。

・その他に特徴：自己組織化の原理で動作（電流が自己組織化分布）するシナジェティック・コンピュータに利用可能な素子などを取り上げました。

●企業から見る（上位10社）

• 出願件数推移
• 企業性格チャ－ト
• 発明者ランキング
• 共同出願
• 公開特許一覧表 → 公報全文pdf

◇第１位： 東芝
・出願件数推移
・企業性格チャ－ト
・発明者ランキング
・共同出願
・公開特許一覧表 → 公報全文pdf
◇第２位： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
◇第３位： セイコーエプソン
◇第４位： メルク　パテント　ゲーエムベーハー
◇第５位：ケンブリッジ　ディスプレイ　テクノロジー　リミテッド
◇第６位： キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション
◇第７位：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
◇第８位： ビーエーエスエフ　ソシエタス・ヨーロピア
◇第９位： パナソニック
◇第１０位： ダウ　グローバル　テクノロジーズ　エルエルシー

全体俯瞰と詳細のクローズアップ

ダイナミックマップはマインドマップ ^® 手法を活用しています。ダイナミックに視点を切り替えて、素早く必要な特許情報と特許マップにアクセスできます。

企業と技術それぞれの観点から、知りたい項目（出願人件数推移、出願人ランキング、発明者ランキング、共同出願人内訳、該当特許一覧表）へとクリックで展開します。

広めの検索式でもれなく調査

特許分類（IPC／FI）を基軸としてキーワードで絞り込む検索式と、キーワードのみの検索式のOR論理による広めの検索式を用いています。

マニュアル査読によるノイズ情報のないデータ

技術と特許の専門スタッフがマニュアル査読を行い、ノイズ情報を除去して技術分類を付与しています。