本書の特長

2010 年9 月12 日から2013 年9月13日までに公開された米国公開特許から、半導体製造プロセスの中で自己組織化技術を用いたことを特徴にする特許情報を国際特許分類（IPC）、共通特許分類（CPC）、米国特許分類（USC）を基軸としてキーワードで絞り込んだ検索で抽出し（1,033件）、専門技術スタッフが全件マニュアル査読にて抽出した407件を収録しました。

企業別・技術別に分析。ビジュアルに全貌を把握できます。全体像の俯瞰と、詳細情報のクローズアップ。ダイナミックに視点を切替えて特許情報から業界の動きや技術の変化を調べることができます。

調査対象技術

半導体製造プロセスの中で自己組織化技術を用いたことを特徴とした特許情報を取り上げました。
また、自己組織化を特徴とした特許情報の中で、特に半導体分野での用途を狙っている特許情報を取り上げました。

本シリーズ「ダイナミックマップ」のねらい

技術テーマの全体俯瞰をしながら技術と企業の詳細をクローズアップできる電⼦版の特許資料です。プレゼンテーションや社内ミーティングに活⽤しやすい豊富な特許マップを掲載しています。最新特許情報へのアップデートサービスもあります。

●技術から見る

• 技術シェア
• 出願件数推移
• 企業シェア
• 企業ランキング
• 公開特許一覧表 → 公報全文pdf

・材料観点に特徴：自己組織化材料に関する特許情報を取り上げました。組成要素や生成プロセスなどに関するものを含みました。
・製法プロセス観点に特徴：半導体プロセスの前工程や後工程、太陽電池プロセス、ナノ構造体プロセスなどへの自己組織化適用に特徴がある特許情報を取り上げました。
MEMS、センサ、オプトなどを含む半導体電子デバイスのプロセスや、ワイヤリング、ボンディング、パッケージセル、光起電性セルなどを含みました。
・設備装置関連に特徴：自己組織化プロセスの設備に関する特許情報を取り上げました。
・用途関連に特徴：自己組織化を用いた用途に特徴がある特許情報を取り上げました。生物学や医療関連デバイスへの自己組織化適用などを含みました。

●企業から見る（上位10社）

• 出願件数推移
• 企業性格チャ－ト
• 発明者ランキング
• 共同出願
• 公開特許一覧表 → 公報全文pdf

◇第１位： INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
・出願件数推移
・企業性格チャ－ト
・発明者ランキング
・共同出願
・公開特許一覧表 → 公報全文pdf
◇第２位： KABUSHIKIKAISHA TOSHIBA
◇第３位： MICRON TECHNOLOGY， INC.
◇第４位： SAMSUNG ELECTRONICS CO.， LTD.
◇第５位： SILLS SCOTT
◇第６位：TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY， LTD.
◇第７位： INTERMOLECULAR， INC.
◇第８位： ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE
◇第０位： ILLWARD DAN
◇第１０位： Hynix Semiconductor Inc.

全体俯瞰と詳細のクローズアップ

ダイナミックマップはマインドマップ ^® 手法を活用しています。ダイナミックに視点を切り替えて、素早く必要な特許情報と特許マップにアクセスできます。

企業と技術それぞれの観点から、知りたい項目（出願人件数推移、出願人ランキング、発明者ランキング、共同出願人内訳、該当特許一覧表）へとクリックで展開します。

広めの検索式でもれなく調査

特許分類（IPC／FI）を基軸としてキーワードで絞り込む検索式と、キーワードのみの検索式のOR論理による広めの検索式を用いています。

マニュアル査読によるノイズ情報のないデータ

技術と特許の専門スタッフがマニュアル査読を行い、ノイズ情報を除去して技術分類を付与しています。