本書の特長

ダイナミックマップ　を用いた「技術と企業」を一覧する資料です。

本シリーズ「ダイナミックマップ」年鑑のねらい

企業の研究開発は5年程度を目安に行われているのが標準的なようです。ダイナミックマップ年鑑は、ここに着目し、「ある技術テーマについて、直近でどのような企業が、どのような形でかかわっているのか」を一覧できる資料として発刊いたしました。

★ある技術テーマについて

★直近の3年間に公開された公開特許情報を整理した

★企業と、技術との関わりが一覧できる電子データです。

企業別・技術別に3年間のデータを掲載している技術テーマ別、電⼦版特許情報資料です。技術分野別企業の出願数ランキング、共同出願、発明者を追うことができ、企業の技術的特徴を見ることができます。逆に企業側からどのような技術に取り組んでいるのか、性格チャートで一覧することもできます。

いずれの資料も公報全文PDFへとリンクがされています。

■調査対象特許情報

2010 年1 月1 日以後、2012 年12月31日までに発行された国内の公開特許・（再）公表特許を調査しました。なお、実用新案は除きました。

■検索式

特許分類（IPC／FI）を基軸としてキーワードで絞り込んだ主検索式と、キーワードのみを組み合わせた補完検索式の論理ORを用いました。下記検索により総件数
7,811件を調査し、3,473件を抽出しました。

【使用した特許分類】（*は前方一致の意）

IPC：B29C 59/02*、　H01L 21/027*、　B81*+B82*
FI ：B29C 59/02*、　H01L
21/30 502D、　B81*+B82*
特許分類の説明は「特許電子図書館パテントマップガイダンス」をご参照ください。
「特許電子図書館パテントマップガイダンス」http://www5.ipdl.inpit.go.jp/pmgs1/pmgs1/pmgs
【使用したキーワード】
微細+微小+ナノ+NM+ＮＭ+ｎｍ+nm、　プリント+プリンテ+金型+スタン+モール+テンプレ、
剥離+離型+転写+圧+押+プレス+密着、
パターン+形状+構造+形成、凹凸+周期+規則+テクスチャ+織+網+グリッド+格子+波型+波形+波面+波状+繰返+繰り返+多孔+配列、
凹+凸+コルゲート+褶曲+起伏+溝+畝+アスペクト+突起+パターン+模様+リソグラフ+うねり+ウネリ+模様+皺+シワ+しわ+梨地+粗面+粗化+曲面+球面+エンボス+レプリカ+襞+ヒダ、
インプリン+マイクロコンタクト+イムプリン、　微細+微小+ナノ、プリント+プリンテ+型+スタン+モール+テンプレ、
剥離+離型+転写+圧+押+プレス+密接、パターン+形状+構造+形成、自己組織+自己集合+自己規則+自己配列、
(規則+周期)&(規則的配列+規則化配列+規則配列+規則的に配列+ブロックポリマ+ブロックコポリマ)、
ナノバックリング+((ナノ+微細+微小)&収縮&(シート+フィルム)&表面&形状)、　インプリン、
ナノインプリン、　ナノイムプリン、　マイクロコンタクト、　マイクロ・コンタクト、　マイクローコンタクト　;など

■調査対象とした技術

調査対象とした技術は、ナノインプリントを対象とする技術です。

型（モールド）を被加工体に対して機械的に接触させ（押圧とは限らない）、被成形体との接触面に微細な凹凸等の形状や表面濡れ性の異なる領域（パターン）を賦型する微細加工技術をを取り上げました。
基本的にμかナノレベルの微細性があり、型（モールド）を用いて被加工体に型が接触すること、パターンが形成されることを条件といたしました。

ナノインプリント用材料、成型装置、金型（モールド）、剥離転写等の工程プロセス、測定技術、被加工体、適用用途などを取り上げ、ナノインプリント技術を研究開発する技術的観点から関連があると思われる特許情報は採用しました。
なお、微細性が判断できず、微細性を除けばナノインプリントにも該当すると言えそうな場合も取り上げました。

また、例えば、流体噴射やインクジェット（液滴）、フォトリソ（光）のように、「型」を用いない微細なプリント技術、画像等のプリンタなど、一般の印刷を対象とするプリント技術は除きました。
ただし、インクジェットを用いても、ナノインプリント被加工体の塗布をインクジェットで行う場合には取り上げました。
フォトリソグラフ装置、リソグラフ装置でもナノインプリントと特定できない場合、ナノレベルであっても分子インプリントは除きました。

●技術から見る

■技術分類

型（モールド）

被加工面に押圧してパターンを賦型する「型」に関する情報を取り上げました。
・モールドの材質、製造方法、付随部材
・ソフトなモールド
・モールド表面のめっき処理や離型剤
・モールドの劣化判定、欠陥対策
・パターンは表面の凹凸に限らず皺や溝、褶曲など。凹凸のないパターンも含めました。

インプリント樹脂（材料）

ナノインプリントの被加工体に用いられる樹脂材料に関する情報を取り上げました。・ナノインプリント用感光樹脂、熱可塑材料

インプリント装置（スタンパ）

ナノインプリントする機械加工装置（スタンパ）に関する情報を取り上げました。・離型装置も含みました。・アライメント装置も含めました。ただし、ナノインプリントと特定されない技術は取り上げませんでした。フォトリソ装置は含めていません。

成型プロセス（離型、転写、助剤など）

ナノインプリントの作業工程や処理方法に関する情報を取り上げました。
・凹凸の賦型に限らず表面状態（親水性化、疎水性化など）のパターン加工
・R2Rプロセス

計測評価

ナノインプリントに関する測定技術、分析評価技術に関する情報を取り上げました。

用途や応用など

ナノインプリントの用途に関する情報を取り上げました。ナノインプリントと記されていなくても、用途開拓の参考になると思われる情報は取り上げました。

その他

ナノインプリントの参考になる情報を取り上げました。
・競合技術
・自己組織化、ミクロ相分離、シュリンク（バックリング）などのボトムアッププロセス

●企業から見る（上位10社）

以下の企業が主要なプレーヤーとして表れています。
1 株式会社東芝
2 富士フイルム株式会社
3 キヤノン株式会社
4 エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．
5 大日本印刷株式会社
6 ソニー株式会社
7 凸版印刷株式会社
8 コニカミノルタホールディングス株式会社
9 パナソニック株式会社
10 ＨＯＹＡ株式会社

全体俯瞰と詳細のクローズアップ

ダイナミックマップはマインドマップ ^® 手法を活用しています。ダイナミックに視点を切り替えて、素早く必要な特許情報と特許マップにアクセスできます。

企業と技術それぞれの観点から、知りたい項目（出願人件数推移、出願人ランキング、発明者ランキング、共同出願人内訳、該当特許一覧表）へとクリックで展開します。

広めの検索式でもれなく調査

特許分類（IPC／FI）を基軸としてキーワードで絞り込む検索式と、キーワードのみの検索式のOR論理による広めの検索式を用いています。

マニュアル査読によるノイズ情報のないデータ

技術と特許の専門スタッフがマニュアル査読を行い、ノイズ情報を除去して技術分類を付与しています。