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研究開発アーリーステージの開発テーマ探索 ─ パテントガイドブック有機ELのウェットプロセス

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2009年2月発刊
ネオテクノロジー監修
本文PDF(A4判 179ページ)
定価:50,000円+税(送料別)
オプション:掲載特許一覧表(EXCEL版、全文明細書PDFリンク付)
定価:10,000円+税(送料別)

本書の特長

技術テーマを絞り、直近2~3年間の特許情報に基づいて、技術開発最前線がどうなっているか、大切な技術成果を知財にどう反映させているか、「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして典型例約100件を集めたガイドブックです。

自己の課題の相対的位置を知りこれからの方向を考える資料として、また簡易な特許調査としてご活用ください。

技術分類

※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・インクジェットプロセス
-パターン形成
-表示素子・装置
-リペア技術
-製造装置
・印刷プロセス
-表示素子・装置
-オフセット印刷法
-フレキソ印刷法
-凸版の製造
-印刷装置
・スピンコートプロセス
・その他のプロセス
-湿式/塗布法
-液相法/液滴吐出法
-その他

技術的着眼点を俯瞰できるガイドマップ

ガイドマップは、アングル(技術的着眼点)ごとに図面と企業を選び放射状に配置した、ネオテクノロジー独自の俯瞰マップです。直近数年の出願にあらわれる技術と企業を見渡すことができます。

見やすい誌面

本書で取り上げた特許情報をアングル(技術分類)ごとに分けて抄録を掲載することにより、技術の特徴がより把握しやすい誌面構成となっています。また、巻末には特許情報の一覧表も掲載しています。



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