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研究開発アーリーステージの開発テーマ探索 ─ パテントガイドブックナノインプリントの全体俯瞰Part2

表紙

2013年3月発刊
ネオテクノロジー監修
本文PDF(A4判 142ページ)
定価:50,000円+税(送料別)
オプション:掲載特許一覧表(EXCEL版、全文明細書PDFリンク付)
定価:10,000円+税(送料別)

本書の特長

本書は、ナノインプリントの全体俯瞰の多様な用途展開を取り上げました。

・被加工面に押圧してパターンを賦型する「型(モールド)」に関する情報を取り上げました。モールドの材質や形状(ロールなど)、材質、製造方法、モールドに付随する部材を含めました。ソフトなモールドやモールド表面のめっき処理、離型剤、モールドの劣化判定や欠陥対策も含めました。パターンの形態は表面の凹凸に限らず皺や溝、褶曲なども含めました。一部に、ナノインプリントの概念に含めておきたい凹凸のないパターンも含めています。

・ナノインプリントに用いられる樹脂などの材料に関する情報を取り上げました。ナノインプリント用感光樹脂、熱可塑材料のほか、離型剤や洗浄材料も含めています。無機のナノインプリント材料も、材料に特徴がある特許情報は取り上げています。

・ナノインプリントする機械加工装置(スタンパ)に関する情報を取り上げました。離型装置やアライメント装置も含めました。ただし、ナノインプリントと特定されない技術は取り上げませんでした。例えば、一般のフォトリソ装置は取り上げていません。

・ナノインプリントの作業工程や処理方法に関する情報を取り上げました。凹凸の賦型に限らず表面状態(親水性化、疎水性化など)のパターン加工も含みました。R2Rプロセスも含めています。

・ナノインプリントに関する測定技術、分析評価技術に関する情報を取り上げました。

・ナノインプリントの用途に関する情報を取り上げました。ナノインプリントと記されていなくても、用途開拓の参考になると思われる情報。

・ナノインプリントの参考になる情報を取り上げました。競合技術。自己組織化、ミクロ相分離、シュリンク(バックリング)などのボトムアッププロセスも参考例として取り上げました。

 

本シリーズ「パテントガイドブック」のねらい

技術テーマのプランニングや技術開発において、技術者自身が最新の特許情報を的確に把握することが求められています。しかし、膨大な特許情報の中から必要な情報を抽出するには困難が伴います。そこで、特定の技術テーマにフォーカスし、俯瞰しやすいレベルにまとめたのが本シリーズ「パテントガイドブック」です。

技術者の視点で直近の特許情報から最低限必要な約100件の情報を厳選した本シリーズは、技術者が進むべき将来の方向を探る道しるべとして最適なガイドです。

 

1.ガイドブックシリーズのねらい
2.ガイドマップ(当該技術の全体像俯瞰マップ)
3.IPC/FIガイド(当該技術テーマの検索ガイド)
4.着眼点別特許抄録

・モールド
・インプリント樹脂(材料)
・インプリント装置
・成型プロセス
・計測評価
・用途や応用
・その他

5.掲載特許一覧表

掲載企業(順不同)

HOYA
JSR
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
キヤノン
シャープ
フジクラ
ブリヂストン
東芝
三菱レイヨン
信越化学工業
大日本印刷
富士フイルム ほか

技術的着眼点を俯瞰できる

ガイドマップガイドマップは、アングル(技術的着眼点)ごとに図面と企業を選び放射状に配置した、ネオテクノロジー独自の俯瞰マップです。直近数年の出願にあらわれる技術と企業を見渡すことができます。

深堀調査に役立つIPC/FIガイド

深掘調査を行う際には国際特許分類(IPC)や日本特許庁独自のファイルインデックス(FI)を利用すると便利です。IPC/FIガイドではアングル(技術分類)ごとの特許情報に実際に付与されている特許分類を抽出し掲載しています。

見やすい誌面

本書で取り上げた特許情報をアングル(技術分類)ごとに分けて抄録を掲載することにより、技術の特徴がより把握しやすい誌面構成となっています。また、巻末には特許情報の一覧表も掲載しています。



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