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技術分類別ご案内クリーンテクノロジー>クリーンルームの技術動向分析調査 

クリーンルームの技術動向分析調査 
第4巻:プロセスとマテリアルハンドリング

クリーンルームの技術動向分析調査  高度清浄環境(コンタミネーションコントロール)は、製品の信頼性を高める基幹技術です。 当レポートでは、1992年12月までの5年間の建設、空調、半導体、製造装置、その他広範囲にわたる関連特許・実用新案1000件を調査。 4巻にまとめ、さらに各巻の内容を具体的な技術分類に分け、技術の流れ・動向を特許情報から分析しました。 開発・設計のヒント集、各企業の技術開発戦略・市場戦略をよみとる資料として幅広く活用できます。
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目次
第1章総論
はじめに
1調査範囲と調査方法
2技術解説
(1)技術分i類とその説明
(2)主要出願企業別動向
3特許資料一覧表の使い方
公開番号順特許資料一覧表
出願日順特許資料一覧表
出願人別特許資料一覧表

第2章 クリーンルームでの半導体プロセスに関する技術動向

第3章 クリーンルームでの半導体以外の各種生産プロセスに関する技術動向

小区分31 光ディスクや磁気ディスク、磁気テープに関するプロセス装置
小区分32 一般的な各種の加工装置や検査装置など

第4章 クリーンルームでの半導体ヴエハなどの搬送に関する技術動向

小区分41 チェーン、ベルト、ローラ、パレットなど接触式搬送
小区分42 磁気浮上式などの非接触式搬送
小区分43 クリーンチューブ搬送
小区分44 エレベータなどの昇降装置
小区分45 ハンドラやコロケータなどの移載装置
小区分46 クリーンルーム室内用ロボット
小区分47 カートやキャリア、自走式台車
小区分48 パスボックス

第5章クリーンルームでの半導体ウエハなどの保管に関する技術動向

第6章 クリーンルームでの機械動作に関する技術動向

小区分61 チャック機構
小区分62 直線運動機構
小区分63 回転運動機構
小区分64 軸受、クラッチ、防振装置など
小区分65 ロボットの機械運動部分

第7章クリーンルームで使用する工具に関する技術動向

小区分71 工具
小区分72 その他の消耗品など

特許及び実用新案の公開公報、
上記小区分毎に分類し、公開番号順に綴じ込ゐでいます。
価格・体裁・発刊日
78,750円(税込、本体価格 75,000円、送料別)
A4ファイル綴じ 約1,000〜1,300ぺージ 
1993年2月
問い合わせ先
商品に関するお問い合わせ・ご質問・ご注文は下記でも承っております。
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TEL: 03-3219-0899   FAX: 03-3219-7066
E-mail: toiawase@neotechnology.co.jp